近日，williamhill威廉希尔官网研究人员两篇论文被集成电路电子器件领域国际顶级会议IEDM（International Electron Devices Meeting 2007）录用。

此次被录用的两篇论文有关采用集成电路微细加工技术完成的硅纳米线围栅MOS器件研究，这是该会议首次采用中国大陆本土集成电路主流MOS器件方面的论文。

IEDM会议每年在美国召开，在电子器件领域享有最高声誉，迄今已有50多年历史。INTEL、IBM、AMD、SAMSUNG等国际知名半导体公司和国际著名大学都会在该会议上发表最新的技术和研究成果。该会议的论文录用率一直在30％以下。2004年和2006年，中国大陆的微机电（MEMS）器件方面的文章被IEDM录用，实现了该会议上大陆文章零的突破。